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氧化锆

200nm立方相5%钇稳定氧化锆(5%YSZ)

产品概述

化学组成:Zr0.95Y0.05O2(5 mol% Y2O3掺杂)

晶型结构:纯立方相(c-ZrO₂)(钇稳定化,无高温相变)

粒径分布:平均粒径200nm(SEM)

纯度等级:≥99.5%

物理形态:微米级亚球形粉末

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200nm立方相5%钇稳定氧化锆(5%YSZ)

200nm立方相5%钇稳定氧化锆(5%YSZ)

关键特性

优化的烧结性能:200nm粒径平衡烧结活性与颗粒堆积密度,适合常压烧结(比纳米粉体更易控制收缩率)。

高相稳定性:立方相在室温至1400℃保持稳定(优于未掺杂ZrO₂)。


应用领域

结构陶瓷领域:耐磨陶瓷部件(轴承、阀门密封环)    

功能涂层:耐腐蚀涂层(化工反应器内衬)  

电子材料:介电陶瓷(MLCC基材,需配合细化工艺)  压电传感器(需极化处理)  

耐火材料:高温炉衬(1600°C以下稳定)

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